အမျိုးအစားအားလုံး
ENEN

TEOS

Tetraethyl Orthosilicate

Ethylsilicate (TEOS) ကို တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးနည်းပညာတွင် အသုံးပြုသည့် ကုန်ကြမ်းအဖြစ် အသုံးပြု၍ ဖိအားနည်းသော ဓာတုအငွေ့များ စုဆောင်းခြင်း (LPCVD) အတွက် အသုံးပြုနိုင်ပြီး SiC wafers deposits အတွင်းရှိ ဆီလီကာ၏ မျက်နှာပြင်သည် အောက်ဆိုဒ်အလတ်စား၏ သိပ်သည်းဆကို သေချာစေရန်နှင့် SiC wafers များ၏ ကပ်ငြိနိုင်စွမ်း၊ ကိရိယာ၏စွမ်းဆောင်ရည်နှင့်အထွက်နှုန်းကိုတိုးတက်စေသည်နှင့်အချိန်ကြာမြင့်စွာအပူချိန်မြင့်မားသောဓာတ်တိုးခြင်း၏ချို့ယွင်းချက်အချို့၏အထူအောက်ဆိုဒ်အလွှာကိုရရှိရန်ရှောင်ရှားပါ။

မေးခြင်း
  • ျခံဳငံုသံုးသပ္မႈ
  • လြှောကျလှာ
  • အမြဲမေးလေ့ရှိသောမေးခွန်းများ
  • မေးခြင်း
  • Related ထုတ်ကုန်များ
Tetraethyl Orthosilicate
Tetraethyl Orthosilicate
Tetraethyl Orthosilicate
Tetraethyl Orthosilicate
Tetraethyl Orthosilicate
Tetraethyl Orthosilicate
ဖြစ်စဉ်

TEOS ကို ပုံမှန်အပူချိန်နှင့် ဖိအားတွင် ဆီလီကွန် tetrachloride နှင့် Ethanol ၏ esterification ဖြင့် ရရှိသည်။
စုပ်ယူမှု၊ ပေါင်းခံခြင်းနှင့် စစ်ထုတ်ခြင်းတို့ဖြင့် စွန်းထင်းနေသော TEOS။ Jinhong အဓိက တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းကုမ္ပဏီများနှင့် မဟာဗျူဟာမြောက် ပူးပေါင်းဆောင်ရွက်မှုသို့ ရောက်ရှိခဲ့ပြီး နှစ်စဉ် အီလက်ထရွန်းနစ်အဆင့် TEOS တန်ချိန် 1,200 ကျော်ကို ပံ့ပိုးပေးလျက်ရှိသည်။

ကုန်ပစ္စည်း TEOS
CAS အမှတ် 78-10-4
သန့်ရှင်းစင်ကြယ် ≥99.9%
applications ကို
  • semiconductor
    semiconductor

    TEOS သည် SiC wafers deposits အတွင်းရှိ ဆီလီကာများ၏ မျက်နှာပြင်ရှိ ဖိအားနည်း ဓာတုအငွေ့ပျံခြင်း (LPCVD) အတွက် အသုံးပြုနိုင်သည်။

မကြာခဏမေးမေးခှနျး
  • Q: မင်းပေးဆောင်နိုင်တဲ့သတ်မှတ်ချက်ကဘာလဲ။

    ဆလင်ဒါ- 5 ဂါလံ Valve: 1/4'VCR အကြောင်းအရာ- 17 ကီလိုဂရမ်

    ဆလင်ဒါ: 10 ဂါလံ Valve: 1/4'VCR အကြောင်းအရာ: 34 ကီလိုဂရမ်

    ဆလင်ဒါ- 200L Valve- 1/4'VCR အကြောင်းအရာ- 190 ကီလိုဂရမ်

  • TEOS ၏ သိုလှောင်မှုအခြေအနေကား အဘယ်နည်း။

    TEOS ကို အေးမြခြောက်သွေ့ပြီး လေဝင်လေထွက်ကောင်းသော ဂိုဒေါင်တွင် သိမ်းဆည်းထားသင့်သည်။ မီးနှင့်အပူအရင်းအမြစ်များနှင့်ဝေးဝေးထားပါ။ သိုလှောင်မှုအပူချိန် 37°C ထက်မပိုသင့်ပါ။ ကွန်တိန်နာကို တင်းကျပ်စွာ ပိတ်ထားပါ။ ဓာတ်တိုးဆန့်ကျင်ပစ္စည်းများ၊ အက်ဆစ်နှင့် အယ်ကာလီတို့မှ သီးခြား သိမ်းဆည်းထားသင့်ပြီး ရောနှောခြင်းမပြုသင့်ပါ။ ပေါက်ကွဲမှုဒဏ်ခံနိုင်သော အလင်းရောင်နှင့် လေဝင်လေထွက် အထောက်အကူပြုပစ္စည်းများကို အသုံးပြုထားသည်။

  • TEOS ၏အသုံးပြုမှုမှာဘာတွေလဲ။

    TEOS ကို အပူဒဏ်ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး ဓာတုခံနိုင်ရည်ရှိသော အပေါ်ယံလွှာများနှင့် အော်ဂဲနစ်ဆီလီကွန်အပျော်ရည်များကို ပြင်ဆင်ရန်အတွက် မကြာခဏအသုံးပြုသည်။ ၎င်းကို အော်ဂဲနစ်ပေါင်းစပ်မှု၊ အဆင့်မြင့် crystals များပြင်ဆင်မှုတွင် အခြေခံကုန်ကြမ်းများ၊ optical glass treatment agents၊ bonding agents နှင့် electronics လုပ်ငန်းရှိ insulating material များတွင်လည်း အသုံးပြုနိုင်သည်။

မေးခြင်း
Related ထုတ်ကုန်များ
HF
Hydrofluoric အက်ဆစ်

လုပ်ငန်းစဉ်တွင် Hydrofluoric acid ကို သီးခြားအခြေအနေများအောက်တွင် ဟိုက်ဒရိုဂျင်နှင့် ဖလိုရင်းဓာတ်ငွေ့များ၏ တိုက်ရိုက်တုံ့ပြန်မှု သို့မဟုတ် အပူပေါ်၌ ကယ်လစီယမ်ဖလိုရိုက် (CaF2) ကို စုစည်းထားသော ဆာလဖူရစ်အက်ဆစ် (H2SO4) ဖြင့် တုံ့ပြန်ခြင်းဖြင့် ဖွဲ့စည်းနိုင်သည်။ နောက်ဆုံးနည်းမှာ တုံ့ပြန်မှု pr...

ပိုမိုသိရှိရန်
C₂H₄
အီသလင်း

လုပ်ငန်းစဉ်တွင် စက်မှုတွင်အသုံးပြုသော အီသီလင်းထုတ်လုပ်မှုနည်းလမ်းများတွင် ရေနံ ဟိုက်ဒရိုကာဗွန်ကွဲအက်ခြင်း၊ အီသနောဓာတ်ဓာတ် ခန်းခြောက်ခြင်း၊ coke မီးဖိုဓာတ်ငွေ့ ခွဲထုတ်ခြင်း စသည်တို့ ပါဝင်သည်။ ရေနံနှင့် သဘာဝဓာတ်ငွေ့ အရင်းအမြစ်များ ပေါများခြင်းကြောင့် အီသလင်း၏ အကြီးစား ထုတ်လုပ်မှုသည် ...

ပိုမိုသိရှိရန်
C₂H₄O
Ethylene Oxide (EO)

Process1.Chlorohydrination- ပထမဦးစွာ ethylene နှင့် chlorine gas ကို ရေထဲသို့ 2-chloroethanol ထုတ်ပေးပြီး၊ ထို့နောက် အယ်လကာလီ (များသောအားဖြင့် ထုံးနို့) ကို ethylene oxide ထုတ်ပေးရန်အတွက် 2-chloroethanol နှင့် ဓာတ်ပြုပါသည်။ 2.Oxidation- အာရုံစူးစိုက်မှုဖြင့် လေ သို့မဟုတ် အောက်ဆီဂျင်ကို အသုံးပြု...

ပိုမိုသိရှိရန်
TEOS
Tetraethyl Orthosilicate

ProcessTEOS ကို ပုံမှန်အပူချိန်နှင့် ဖိအားတွင် ဆီလီကွန် tetrachloride နှင့် Ethanol ၏ esterification ဖြင့် ရရှိသည်။ စုပ်ယူမှု၊ ပေါင်းခံခြင်းနှင့် စစ်ထုတ်ခြင်းတို့ဖြင့် စွန်းထင်းနေသော TEOS။ Jinhong သည် အဓိက semiconductor ကုမ္ပဏီများနှင့် မဟာဗျူဟာမြောက် ပူးပေါင်းဆောင်ရွက်မှုသို့ ရောက်ရှိနေပြီဖြစ်ပြီး...

ပိုမိုသိရှိရန်
SiH₄
Silane

ProcessSilane ကို လီသီယမ် သို့မဟုတ် ကယ်လ်စီယမ် အလူမီနီယမ် ဟိုက်ဒရိုက်ကဲ့သို့သော သတ္တုဟိုက်ဒိုက်ဒရိတ်များဖြင့် ဆီလီကွန် tetrachloride လျှော့ချခြင်းဖြင့် ထုတ်လုပ်သည်။ Silane ကို ဟိုက်ဒရိုကလိုရစ်အက်ဆစ်ဖြင့် မဂ္ဂနီဆီယမ်ဆီသတ်ဆေးဖြင့် ထုတ်လုပ်သည်။ GasSilaneCAS No.7803-62-5Purity≥99.9%

ပိုမိုသိရှိရန်
C₄F₈
Octafluorocyclobutane

ProcessOctafluorocyclobutane ကို pyrolysis၊ quenching၊ filtration၊ compression စသည်ဖြင့် tetrafluoroethylene ၏ သေးငယ်သွားခြင်းဖြင့် ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။ မဟိုက်ဒရိုဂျင် ဟိုက်ဒရိုဂျင်တွင် tetrafluorocyclobutane ၏ electrolysis ဖြင့်လည်း Octafluorocyclobutane ကို ရရှိနိုင်သည်။

ပိုမိုသိရှိရန်
H₂
ဟိုက်ဒရိုဂျင်

ပရိုဆက်ဆာ ဟိုက်ဒရိုဂျင်သည် သဘာဝဓာတ်ငွေ့ကို ရေနွေးငွေ့ဖြင့် ပြန်လည်ပြုပြင်ခြင်းဖြင့် ဆိုက်အတွင်း အသုံးပြုရန်အတွက် မကြာခဏ အများဆုံးထုတ်လုပ်သည်။ ထိုကဲ့သို့သောအပင်များကို ကုန်သည်ဈေးကွက်အတွက် ဟိုက်ဒရိုဂျင်အရင်းအမြစ်အဖြစ်လည်း အသုံးပြုနိုင်သည်။ အခြားရင်းမြစ်များမှာ အီလက်ထရွန်းနစ်အပင်များဖြစ်ပြီး ဟိုက်ဒရိုဂျင်သည် ကလိုရို၏ ရလဒ်တစ်ခုဖြစ်သည်။

ပိုမိုသိရှိရန်
SF₆
ဆာလ်ဖာ Hexafluoride

လုပ်ငန်းစဉ်တွင် Sulphur hexafluoride ကို သန့်စင်သော (ဒြပ်စင်) Sulphur ၏ တိုက်ရိုက်ဖလိုရင်းဖြင့် ထုတ်လုပ်သည်၊ ယေဘုယျအားဖြင့် ဖလိုရင်းကို ဖလိုရိုကာဘွန်များထုတ်လုပ်ခြင်းကဲ့သို့သော အခြားရည်ရွယ်ချက်များအတွက် ဖလိုရင်းထုတ်လုပ်သည့်ကုမ္ပဏီများမှ ထုတ်လုပ်သည်။ JinHong ဟာ ​​ဆာလဖာ hexafluoride ကိုလည်း ပေးစွမ်းနိုင်ပါတယ်...

ပိုမိုသိရှိရန်
အို
အောက်စီဂျင်

ပရိုဆက်ဆာအောက်ဆီဂျင်ကို အရည်ပျော်ခြင်းနှင့် နောက်ဆက်တွဲပေါင်းခံခြင်းမှ စီးပွားဖြစ်စကေးတွင် ရရှိသည်။ အလွန်မြင့်မားသော သန့်စင်မှုအောက်ဆီဂျင်ရရှိရန် ပုံမှန်အားဖြင့် လေထုခွဲထုတ်သည့်စက်ရုံမှ ထုတ်ကုန်ကို ဆင့်ပွားသန့်စင်ပြီး ပေါင်းခံခြင်းမှတစ်ဆင့် ထုတ်ယူရန် လိုအပ်သည်...

ပိုမိုသိရှိရန်
C₂H₂
အက်စီတလင်း

ProcessAcetylene သည် ကယ်လ်စီယမ်ကာဗိုက်နှင့် ရေအကြား တုံ့ပြန်မှုဖြင့် စီးပွားဖြစ် ထုတ်လုပ်ပြီး အီသလင်း၏ ထုတ်ကုန်တစ်ခုအနေဖြင့် ထုတ်လုပ်သည်။ GasAcetyleneCAS74-86-2Purity≥98.0%

ပိုမိုသိရှိရန်
N₂
နိုက်ထရိုဂျင်

ပရိုဆက်ဆာနိုက်ထရိုဂျင်သည် လေကို အရည်ပျော်စေပြီး နောက်ပိုင်းတွင် နိုက်ထရိုဂျင်၊ အောက်ဆီဂျင်နှင့် အများအားဖြင့် အာဂွန်အဖြစ်သို့ အမြောက်အမြားထုတ်လုပ်သည်။ နိုက်ထရိုဂျင် အလွန်မြင့်မားသော သန့်စင်မှု လိုအပ်ပါက နိုက်ထရိုဂျင်သည် ဆင့်ပွား p ကို ဖြတ်သန်းရန် လိုအပ်ပါသည်။

ပိုမိုသိရှိရန်
CO₂
ကာဗွန်ဒိုင်အောက်ဆိုက်

ကာဗွန်ဒိုင်အောက်ဆိုဒ်ကို အမျိုးမျိုးသော အရင်းအမြစ်များမှ ပြန်လည်ရယူသည်။ ၎င်းကို အချဉ်ဖောက်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များ၊ ထုံးကျောက်မီးဖိုများ၊ သဘာဝ CO2 စမ်းများ၊ ဓာတုနှင့် ရေနံဓာတုဗေဒလုပ်ငန်းများမှ ဓာတ်ငွေ့ထုတ်လွှတ်မှုအဖြစ် ရရှိသည်။ မကြာသေးမီက CO2 သည် လည်း ပြန်လည်သိမ်းယူသည်...

ပိုမိုသိရှိရန်
Ar
အာဂွန်

လုပ်ငန်းစဉ်တွင် အာဂွန်၏ အသုံးအများဆုံးရင်းမြစ်မှာ လေကို ခွဲထုတ်သည့် စက်ရုံဖြစ်သည်။ လေထဲတွင် အနီးစပ်ဆုံး ပါဝင်ပါသည်။ 0.93% (vol.) အာဂွန်။ အောက်ဆီဂျင် 5% အထိပါရှိသော အာဂွန်ကြမ်းစီးကြောင်းကို အလယ်တန်း ("လက်မောင်း") ကော်လံမှတစ်ဆင့် ပင်မလေကြောင်းခွဲထွက်ကော်လံမှ ဖယ်ရှားသည်။ အာဂွန်အစိမ်းသည်...

ပိုမိုသိရှိရန်
NH₃
ဇဝက်သာ

ProcessAmmonia ကို ဟိုက်ဒရိုဂျင်နှင့် နိုက်ထရိုဂျင်ကြား တိုက်ရိုက်တုံ့ပြန်မှု ပါဝင်သော Haber-Bosch လုပ်ငန်းစဉ်ဖြင့် ထုတ်လုပ်ထားပြီး အံအချိုးအစား 3:1 ဖြစ်သည်။ အမိုးနီးယားကို Haber-Bosch လုပ်ငန်းစဉ်ဖြင့် ထုတ်လုပ်ထားပြီး ဟိုက်ဒရော့ဂ်ကြား တိုက်ရိုက်တုံ့ပြန်မှုပါ၀င်သည်...

ပိုမိုသိရှိရန်
N₂O
နိုက်ထရပ်စ်အောက်ဆိုဒ်

အမိုနီယမ်နိုက်ထရိတ်၏ အပူပိုင်းပြိုကွဲခြင်းမှ အများဆုံးရရှိသော နိုက်ထရပ်အောက်ဆိုဒ်ကို ရရှိသည်။ နိုက်ထရိတ် သို့မဟုတ် နိုက်ထရိတ်များကို ထိန်းချုပ်ထားသော လျှော့ချခြင်းဖြင့်၊ ဟိုက်ပါနိုက်ထရစ်များ နှေးကွေးစွာ ပြိုကွဲခြင်း သို့မဟုတ် ဟိုက်ဒရိုစီ၏ အပူပိုင်းပြိုကွဲခြင်းမှလည်း ရရှိနိုင်သည်။

ပိုမိုသိရှိရန်

Hot အမျိုးအစားများ

Jinhong Gas Co., Ltd

မူပိုင်ခွင့် © Jinhong Gas Co., Ltd. All Rights Reserved. - ကိုယ်ရေးအချက်အလက်မူဝါဒ|သေဘာတူညီခ်က္မ်ား|ဘ‌‌လော့ခ်